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石英玻璃的脫羥時間


  石英玻璃脫羥時間取決于石英玻璃的制備工藝及規格尺寸、所采用的脫羥氣氛及溫度。
  在正常熔制情況即氧化或中性氣氛下如以SiCl4為原料
  氫氧焰為熱源高溫水解氣相沉積合成的石英玻璃和以水晶為原料、氫氧焰為熱源煉熔制的石英玻璃中大部分羥基呈穩定狀態,制品的規格尺寸大的話,即使脫羥基時間再長也很難將其中的羥基全部脫出。通常0.5~1.0mm厚合成和氣煉石英玻璃片在真空或干燥的N2、1050℃的脫羥條件下,經過140h以上方可脫出50%左右的羥基,時間再長幾乎不再脫出。
  而在富氫的還原性氣氛下熔制的石英玻璃如以H2為保護性氣體的連熔爐熔制的石英玻璃,由于氧缺陷的存在,石英玻璃中的羥基亞穩狀態,很容易擴散放出H2,如1~1.5mm厚的煉熔石英玻璃管在真空或流動的干燥N2、1050℃的脫羥條件下,經過2h即可脫出90%以上的羥基。
  同樣,若在富氫的還原性氣氛下合成或氣煉的石英玻璃,相同脫羥條件,也可大幅度增加脫羥量。
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